摘　要：通过对陶瓷研磨抛光加工工艺的研究，探讨了磨料种类和粒度、研磨抛光参数及研磨抛光液的浓度对工件表面状态和加工速率的影响，指出了研磨抛光过程中的注意事项，得出了较佳的工艺条件。结果表明，采用W5的氧化铝磨粒粗研，40、80 nm的二氧化硅磨粒进行抛光，研磨抛光压力为2 N/cm2，研磨抛光液的浓度为12 wt%时，实验效果较佳，表面光滑平整无划痕，粗糙度较理想。

【分　 类】 文化研究
【关 键 词】 陶瓷  研磨抛光  加工工艺
【来 　源】 互联网
【收　 录】 中国学术期刊网